ПРОБЛЕМИ ІОННО-ПЛАЗМОВИХ ТЕХНОЛОГІЙ НА ОСНОВІ ВАКУУМНО-ДУГОВОГО РОЗРЯДУ Й ШЛЯХИ ЇХНЬОГО РІШЕННЯ

Ю.О. Сисоєв

Наведено аналіз основних проблем іонно-плазмових технологій, у яких плазма генерується вакуумно-дуговим розрядом з інтегрально холодним катодом. Ці проблеми розділені на групи відповідно до основних зон, які характерні для розглянутих технологій. Коротко охарактеризовані відомі методи й обладнання, що дозволяють вирішити деякі з існуючих проблем, а також запропоновані нові рішення, які дозволяють підвищити ефективність застосовуваних у промисловості технологій. Розроблене обладнання є незамінним при створенні нового покоління складнокомпозиційних покриттів, до складу яких входять як метали, так і кілька реакційних газів, а також при автоматизації процесів іонно-плазмової обробки.

Ключові слова: іонно-плазмова технологія, вакуумно-дуговий розряд, формування покриттів, іонне очищення, автоматизація процесів іонно-плазмової обробки.