ПРОБЛЕМЫ ИОННО-ПЛАЗМЕННЫХ ТЕХНОЛОГИЙ НА ОСНОВЕ ВАКУУМНО-ДУГОВОГО РАЗРЯДА И ПУТИ ИХ РЕШЕНИЯ

Ю.А. Сысоев

Приведен анализ основных проблем ионно-плазменных технологий, в которых плазма генерируется вакуумно-дуговым разрядом с интегрально холодным катодом. Эти проблемы разделены на группы по выделенным основным зонам, характерным для рассматриваемых технологий. Кратко охарактеризованы известные методы и оборудование, позволяющие решить некоторые из существующих проблем, а также предложены новые решения, позволяющие повысить эффективность применяемых в промышленности технологий. Разработанное оборудование является незаменимым при создании нового поколения сложнокомпозиционных покрытий, в состав которых входят как металлы, так и несколько реакционных газов, а также при автоматизации процессов ионно-плазменной обработки.

Ключевые слова: ионно-плазменная технология, вакуумно-дуговой разряд, формирование покрытий, ионная очистка, автоматизация процессов ионно-плазменной обработки.