МАТЕМАТИЧЕСКОЕ
МОДЕЛИРОВАНИЕ ПРОЦЕССОВ В ИНДУКЦИОННЫХ ВЫСОКОЧАСТОТНЫХ ИСТОЧНИКАХ ПЛАЗМЫ И
ЭЛЕКТРОНОВ
А.В. Лоян, С.Ю. Нестеренко,
Ш. Рошанпур, А.И. Цаглов
В приближении
однокомпонентной магнитной гидродинамики представлена математическая модель
процессов в индукционных высокочастотных источниках плазмы и электронов.
Уравнения записаны в двумерной форме в представлении об аксиальной симметрии
задачи. Перенос импульса описан уравнением вязкости, в котором учтены влияния
магнитного поля на диссипативные процессы в разреженной среде. Приведены
предварительные оценки глубины магнитного скин-слоя и
токового слоя. Сформулированы граничные условия, описывающие потоки частиц,
импульса и энергии на поверхности устройства.
Ключевые
слова: ВЧ-ионизация, источник плазмы,
источник электронов